나노여과막을 정기적으로 세척해야 하는 이유는 무엇입니까?
나노여과막은 사용과정에서 장기간 사용되기 때문에 수중의 부유물질과 일부 불순물이 여과막 표면의 기공크기를 막아 막이 막히게 하고 장기간 막힘 현상이 발생하게 됩니다. 물 생산을 감소시키고 나노 여과막 요소에 영향을 미칩니다.돌이킬 수 없는 손상을 일으킬 수 있습니다.
나노여과막의 세척 주기는 얼마나 됩니까?
일반적으로 나노여과막의 세척주기는 주로 막요소의 사용에 따라 결정되는데 보통 3개월 정도이지만, 막요소의 수분 생산량이 감소하면 제때에 나노여과막을 세척해야 한다.
나노여과막 세척 시 주의할 점은?
세척시 잔류염소 및 기타 산화제가 없는 고품질 산화수를 사용하십시오.
세척 용액을 준비할 때 구성 요소 주기에 들어가기 전에 모든 세척 화학 물질이 잘 용해되고 혼합되었는지 확인하십시오.
세척제 및 멤브레인 요소를 순환시킨 후 잔류 염소 및 기타 산화제가 포함되지 않은 고품질의 물로 멤브레인 요소를 헹구어야 합니다(최소 온도>20℃).
온도 및 PH 값
세척 용액의 사이클 동안 온도는 pH 2-10에서 50C를 초과해서는 안되며 온도는 pH 1-11에서 35C를 초과해서는 안되며 온도는 pH 1-12에서 30C를 초과해서는 안됩니다.
세정액의 흐름 방향
직경이 6인치보다 큰 구성 요소의 경우 압력 용기의 스러스트 링이 다음 위치에만 설치되기 때문에 구성 요소가 "망원경" 현상을 생성하지 않도록 하려면 세척액의 흐름 방향이 정상 작동 방향과 같아야 합니다. 압력 용기의 농축된 물 끝.작은 구성 요소의 시스템을 청소할 때도 이 점에 주의하는 것이 좋습니다.
남아있는 세제를 깨끗이 세척
세척 시 멤브레인에 남아있는 세척제를 철저히 세척하도록 주의하십시오.세척제가 완전히 세척되지 않으면 막 형성 시스템에 먼지가 쌓이기 매우 쉽고 나노여과막의 수명이 단축됩니다.알칼리성 세제는 얼룩을 제거하는 세척력이 낮습니다.
나노여과막의 세척 주기를 연장하는 방법은 무엇입니까?
전처리 증가
전처리 공정을 늘리는 것이 일반적으로 가장 오래 사용되며 멀티미디어 필터 및 한외 여과막과 같은 공정을 통해 원수를 사전 처리하여 수질을 향상시킬 수 있으므로 나노 여과막 요소의 오염을 효과적으로 줄일 수 있습니다.
산 추가
대부분의 지표수와 지하수의 CaCO3는 거의 포화 상태입니다.따라서 산에 H 잎을 첨가함으로써 화학적 균형을 왼쪽으로 이동시켜 탄산칼슘을 용해된 상태로 유지할 수 있다.사용된 산의 품질은 식품 등급이어야 합니다.대부분의 국가와 지역에서 황산은 염산보다 사용하기 쉽지만 유입수 내 황산염 라디칼의 함량이 증가합니다.황산염 스케일에 관한 한 문제는 심각할 것입니다.
스케일 방지제 추가
스케일 억제제는 탄산염 스케일, 황산염 스케일 및 불화칼슘 스케일을 제어하는 데 사용할 수 있습니다.스케일 억제제에는 일반적으로 3가지 유형이 있습니다: 헥사메타인산나트륨(SHMP), 유기 인산염 및 폴리아크릴레이트.불용성 알루미늄 및 철의 스케일링 방지에 적합하며 고분자량 폴리아크릴레이트는 분산 효과를 통해 SiO2 스케일링의 형성을 감소시킬 수 있습니다.
연화수지 추가
Na+z 이온은 물에서 Ca2+, Ba2+, Sr2+와 같은 스케일 양이온을 대체하고 제거하는 데 사용할 수 있습니다.이 처리 동안 유입수의 pH는 변하지 않습니다.따라서 탈기 작업이 필요하지 않습니다.
게시 시간: 2021년 6월 28일